Miaraka amin'ny fivoarana haingana ny 5G, ny faharanitan-tsaina artifisialy (AI) ary ny Internet of Things (IoT), dia nitombo be ny fangatahana fitaovana avo lenta amin'ny indostrian'ny semiconductor.Zirconium tetraklorida (ZrCl₄), amin'ny maha-fitaovana semiconductor manan-danja, dia nanjary fitaovana ilaina ho an'ny chips mandroso (toy ny 3nm / 2nm) noho ny anjara asany lehibe amin'ny fanomanana sarimihetsika avo lenta.
Zirconium tetrachloride sy sarimihetsika avo lenta
Amin'ny famokarana semiconductor, sarimihetsika avo lenta dia iray amin'ireo fitaovana fototra hanatsarana ny fahombiazan'ny chip. Satria ny fizotry ny fihenan'ny fitaovana dielectric vavahady nentim-paharazana mifototra amin'ny silisiôma (toy ny SiO₂), dia manakaiky ny fetra ara-batana ny hateviny, ka mitombo ny fivoahana sy ny fitomboan'ny fanjifana herinaratra. Ny fitaovana avo lenta (toy ny zirconium oxide, hafnium oxide, sns.) dia mety hampitombo ny hatevin'ny dielectric ara-batana, hampihena ny fiantraikan'ny tonelina, ary hanatsara ny fahamarinan-toerana sy ny fahombiazan'ny fitaovana elektronika.
Zirconium tetrachloride dia mpialoha lalana manan-danja amin'ny fanomanana sarimihetsika avo lenta. Zirconium tetrachloride dia azo ovaina ho sarimihetsika zirconium oxide madio tsara amin'ny alàlan'ny dingana toy ny fametrahana entona simika (CVD) na fametrahana sosona atomika (ALD). Ireo sarimihetsika ireo dia manana fananana dielectric tena tsara ary afaka manatsara ny fahombiazan'ny chips sy ny fahombiazan'ny angovo. Ohatra, ny TSMC dia nampiditra fitaovana vaovao isan-karazany sy fanatsarana ny fizotrany amin'ny fizotrany 2nm, ao anatin'izany ny fampiharana ny sarimihetsika tsy tapaka dielectric avo lenta, izay nahatratra ny fitomboan'ny haavon'ny transistor sy ny fampihenana ny fanjifana herinaratra.
Global Supply Chain Dynamics
Ao amin'ny rojo famatsiana semiconductor manerantany, ny fomba famatsiana sy famokaranazirconium tetrakloridazava-dehibe amin'ny fampandrosoana ny indostria. Amin'izao fotoana izao, ny firenena sy ny faritra toa an'i Shina, Etazonia ary Japon dia manana toerana lehibe amin'ny famokarana zirconium tetrachloride sy ireo fitaovana tsy tapaka dielectric avo lenta.
Ny fandrosoana ara-teknolojia sy ny ho avy
Ny fandrosoana ara-teknolojia no antony lehibe amin'ny fampiroboroboana ny fampiharana ny zirconium tetrachloride amin'ny indostrian'ny semiconductor. Tato anatin'ny taona vitsivitsy, ny fanatsarana ny fizotry ny fametrahana ny sosona atomika (ALD) dia lasa toeram-pikarohana. Ny fizotran'ny ALD dia afaka mifehy tsara ny hateviny sy ny fitovian'ny sarimihetsika amin'ny nanoscale, ka manatsara ny kalitaon'ny sarimihetsika tsy tapaka dielectric avo lenta. Ohatra, ny vondrona mpikaroka Liu Lei ao amin'ny Oniversiten'i Peking dia nanomana sarimihetsika amorphous dielectric avo lenta amin'ny fomba simika mando ary nampihatra izany tamin'ny fitaovana elektronika semiconductor amin'ny lafiny roa.
Ho fanampin'izany, satria mitohy mandroso amin'ny habe kely kokoa ny fizotran'ny semiconductor, dia miitatra ihany koa ny sehatry ny fampiharana ny zirconium tetrachloride. Ohatra, ny TSMC dia mikasa ny hahatratra ny famokarana faobe ny teknolojia 2nm amin'ny tapany faharoa amin'ny 2025, ary Samsung koa dia mazoto mampiroborobo ny fikarohana sy ny fampandrosoana ny dingana 2nm. Ny fanatanterahana ireo dingana mandroso ireo dia tsy afa-misaraka amin'ny fanohanan'ny sarimihetsika tsy tapaka avo lenta, ary ny zirconium tetrachloride, amin'ny maha akora fototra azy, dia tena zava-dehibe.
Raha fintinina, ny anjara asa lehibe amin'ny zirconium tetrachloride amin'ny indostrian'ny semiconductor dia mihamitombo. Miaraka amin'ny lazan'ny 5G, AI ary ny Internet of Things, dia mitombo hatrany ny fitakiana chips avo lenta. Zirconium tetrachloride, ho toy ny mpialoha lalana manan-danja ny avo-dielectric sarimihetsika tsy tapaka, dia handray anjara tsy azo soloina amin'ny fampiroboroboana ny fampandrosoana ny teknolojia chip taranaka manaraka. Amin'ny ho avy, miaraka amin'ny fandrosoan'ny teknolojia sy ny fanatsarana ny rojo famatsiana eran-tany, dia hivelatra kokoa ny fahatsinjovana ny fampiharana ny zirconium tetrachloride.
Fotoana fandefasana: Apr-14-2025