Hafnium tetraklorida | vovoka HfCl4 | CAS 13499-05-3 | vidin'ny orinasa

Famaritana fohy:

Hafnium tetrachloride dia manana fampiharana manan-danja ho toy ny mpialoha lalana ny hafnium oxide, catalyst ho an'ny organika synthesis, fampiharana nokleary, ary manify film deposition, manasongadina ny versatility sy ny maha zava-dehibe amin'ny sehatra teknolojia isan-karazany.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Alefaso mailaka aminay

Product Detail

Tags vokatra

Mombamomba ny vokatra

Fampidirana fohy

Anaran'ny vokatra: Hafnium tetrachloride
CAS No.: 13499-05-3
Raikipohy: HfCl4
Lanja molekiola: 320.3
Fisehoana: Vovoka fotsy

famaritana

zavatra	famaritana
Bika Aman 'endrika	Vovoka fotsy
HfCl4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Fampiharana

Hafnium Dioxide Precursor: Hafnioma tetraklorida no ampiasaina voalohany indrindra amin'ny famokarana gazy hafnioma (HfO2), akora manana fananana dielectric tena tsara. HfO2 dia ampiasaina betsaka amin'ny fampiharana dielectric avo lenta ho an'ny transistors sy capacitors amin'ny indostrian'ny semiconductor. Ny HfCl4 dia tena ilaina amin'ny fanamboarana fitaovana elektronika mandroso noho ny fahaizany mamorona sarimihetsika manify amin'ny dioksida hafnium.
Catalyst synthesis organika: Hafnium tetrachloride dia azo ampiasaina ho toy ny catalyst amin'ny fanehoan-kevitra synthesis organika isan-karazany, indrindra fa ny polymerization olefin. Ny fananana asidra Lewis dia manampy amin'ny fananganana mpanelanelana mavitrika, ka manatsara ny fahombiazan'ny fanehoan-kevitra simika. Ity fampiharana ity dia manan-danja amin'ny famokarana polymère sy ny zavatra organika hafa amin'ny indostrian'ny simika.
Fampiharana nokleary: Noho ny fizarazarana cross absorption neutron avo, ny hafnium tetrachloride dia be mpampiasa amin'ny fampiharana nokleary, indrindra amin'ny tsorakazo mifehy ny reactors nokleary. Hafnium dia afaka mitroka tsara ny neutrons, noho izany dia fitaovana mety amin'ny fanaraha-maso ny fizotran'ny fission, izay manampy amin'ny fanatsarana ny fiarovana sy ny fahombiazan'ny famokarana angovo nokleary.
Deposition sarimihetsika manify: Hafnium tetrachloride dia ampiasaina amin'ny fizotry ny fametrahana etona simika (CVD) mba hamoronana sarimihetsika manify misy akora mifototra amin'ny hafnium. Tena ilaina amin'ny fampiharana isan-karazany ireo sarimihetsika ireo, ao anatin'izany ny microelectronics, optics, ary ny coatings fiarovana. Ny fahafahana mametraka sarimihetsika fanamiana sy avo lenta dia mahatonga ny HfCl4 ho sarobidy amin'ny dingana famokarana mandroso.